隨著現(xiàn)代科學(xué)和工業(yè)的發(fā)展，材料組分和結(jié)構(gòu)朝著多樣化和復(fù)雜化的方向發(fā)展，傳統(tǒng)的拋光方法往往無(wú)法有效地制備特殊的材料和樣品，比如復(fù)合材料、多孔材料等。與傳統(tǒng)拋光方法相比，氬離子拋光具有應(yīng)力應(yīng)變小、污染少、定位準(zhǔn)確、操作簡(jiǎn)單和普適性等特點(diǎn)，使其成為材料領(lǐng)域內(nèi)一種新型的普適性制樣方法。

氬離子拋光機(jī)工作原理

氬離子拋光機(jī)是利用離子束來(lái)蝕刻固體，它基于離子轟擊效應(yīng)，也稱為濺射，是通過(guò)高能入射離子與固體樣品表面層附近的原子產(chǎn)生碰撞，從而去除表面原子達(dá)到拋光效果的過(guò)程。上世紀(jì)中葉，在氣體放電中首次觀察到濺射效應(yīng)，當(dāng)時(shí)被認(rèn)為是一種損害陰極的有害效應(yīng)，如今卻被廣泛應(yīng)用于表面清潔、蝕刻、薄膜沉積、表面分析和濺射離子源等多種領(lǐng)域。如今，氬離子拋光已是應(yīng)用最廣泛的電子顯微鏡樣品制備方法，在材料科學(xué)、生命科學(xué)、地質(zhì)科學(xué)、電子、工業(yè)制造等熱點(diǎn)領(lǐng)域可發(fā)揮重要作用。氬離子拋光一般具備兩種拋光功能，截面拋光和平面拋光，其原理示意圖如下。

平面拋光是利用離子束中心軸和樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)中心軸之間有一定的偏心量，從而獲得均一的大范圍加工面。

氬離子拋光機(jī)中樣品和離子槍之間放置了擋板，樣品的上端略突出遮擋板，離子束從遮擋板上方照射到樣品上、沿著遮擋板的邊緣，加工出平坦的截面。

推薦產(chǎn)品：

ArNanoFab 100氬離子拋光機(jī)