氬離子拋光（常用氬離子拋光機(jī)）與離子減薄的異同，一直以來困擾著很多用戶，其實(shí)這兩者的基本原理沒什么不同，不同的是使用它們的目的。

離子減薄是通過利用離子束輻照材料表面，使其發(fā)生腐蝕或剝離，從而將材料的厚度減少到所需的尺寸。離子束可以是高能離子或低能離子，其能量決定了材料表面的腐蝕速率。離子束輻照可以是均勻的，也可以是局部的，使得只有特定區(qū)域被減薄。

離子研磨是通過利用離子束在材料表面產(chǎn)生的沖擊和噴射效應(yīng)去除表面雜質(zhì)和不均勻部分，使材料表面更平整光滑。離子束在擊中材料表面時(shí)，會(huì)引起表面原子的彈跳和擴(kuò)散，從而消除局部高度差，使表面更加均勻。

FIB和離子減薄是在透射電子顯微鏡(TEM)測試領(lǐng)域內(nèi)行之有效的樣品制備手段，而氬離子拋光彌補(bǔ)了TEM之外的其他分析測試領(lǐng)域離子束制備樣品的空白，已發(fā)展成為一種新型的高質(zhì)量拋光技術(shù)，在地質(zhì)領(lǐng)域已經(jīng)有了較為廣泛的應(yīng)用，然而在其他材料領(lǐng)域的使用還鮮為人知，有待進(jìn)一步拓展。

氬離子拋光

氬離子拋光一般具備兩種拋光功能，截面拋光和平面拋光。

其中，截面拋光的一項(xiàng)重要改進(jìn)是使用了擋板，如圖1a所示。離子束出射，被擋板遮擋的部分不受離子束的轟擊，而裸露部分邊緣則在離子束作用下逐漸形成一個(gè)垂直于擋板的平整橫截面，如圖1b所示。

平面拋光的示意圖如圖1c所示。平面拋光的樣品形態(tài)比截面拋光可以更為多樣化，異形塊體和粉末拋光也可適用。離子束以一定入射角從樣品表面掠過，樣品表面的原子從上至下被層層除去，從而形成平整的拋光面。

推薦產(chǎn)品：

ArNanoFab 100氬離子拋光機(jī)